电感耦合等离子体质谱ICP-MS的原理与操作
描写学校的作文-文明单位创建方案
电感耦合等离子体质谱ICP-MS
1. ICP-MS仪器介绍
测定超痕
量元素和同位素比值的仪器。由样品引入系统、等离子体离子源系统、离子聚
焦和传输系统、质量分析器
系统和离子检测系统组成。
工作原理:
样品经预处理后,采用电感耦合等离子体质谱进行检测,根据元素的质谱图或特征离子
进行定
性,内标法定量。样品由载气带入雾化系统进行雾化后,以气溶胶形式进入等离子体
的轴向通道,在高温
和惰性气体中被充分蒸发、解离、原子化和电离,转化成带电荷的正离
子,通过铜或镍取样锥收集的离子
,在低真空约133.322帕压力下形成分子束,再通过1~2
毫米直径的截取板进入质谱分析器,经
滤质器质量分离后,到达离子探测器,根据探测器的
计数与浓度的比例关系,可测出元素的含量或同位素
比值。
仪器优点:
具有很低的检出限(达ngml或更低),基体效应小、谱线简单,能同
时测定许多元素,
动态线性范围宽及能快速测定同位素比值。地质学中用于测定岩石、矿石、矿物、包裹
体,
地下水中微量、痕量和超痕量的金属元素,某些卤素元素、非金属元素及元素的同位素比值。
2. ICP产生原理
ICP-MS所用电离源是感应耦合等离子
体(ICP),它与原子发射光谱仪所用的ICP是
一样的,其主体是一个由三层石英套管组成的炬管,
炬管上端绕有负载线圈,三层管从里到
外分别通载气,辅助气和冷却气,负载线圈由高频电源耦合供电,
产生垂直于线圈平面的磁
场。如果通过高频装置使氩气电离,则氩离子和电子在电磁场作用下又会与其它
氩原子碰撞
产生更多的离子和电子,形成涡流。强大的电流产生高温,瞬间使氩气形成温度可达1000
0k
的等离子焰炬。样品由载气带入等离子体焰炬会发生蒸发、分解、激发和电离,辅助气用来
维持等离子体,需要量大约为1 Lmin。冷却气以切线方向引入外管,产生螺旋形气流,使
负载线圈
处外管的内壁得到冷却,冷却气流量为10-15 Lmin。
使用氩气作为等离子气的原因:
氩的第一电离能高于绝大多数元素的第一电离能(除He、F
、Ne外),且低于大多数
元素的第二电离能(除Ca、Sr、Ba等)。因此,大多数元素在氩气等离
子体环境中,只能
电离成单电荷离子,进而可以很容易地由质谱仪器分离并加以检测。
焰火的
三个温度区域:焰心区呈白色,不透明,是高频电流形成的涡流区,等离子体主
要通过这一区域与高频感
应线圈耦合而获得能量。该区温度高达10000 K。内焰区位于焰心
区上方,一般在感应圈以上10
-20mm左右,略带淡蓝色,呈半透明状态。温度约为6000-8000
K,是分析物原子化、激
发、电离与辐射的主要区域。尾焰区在内焰区上方,无色透明,温
度较低,在6000K以下,只能激发
低能级的谱线。
最常用的进样方式是利用同心型或直角型气动雾化器产生气
溶胶,在载气载带下喷入
焰炬,样品进样量大约为1 mLmin,是靠蠕动泵送入雾化器的。
在负载线圈上面约10 mm处,焰炬温度大约为8000
K,在这么高的温度下,电离能低于7
eV的元素完全电离,电离能低于10.5
eV的元素电离度大于20%。由于大部分重要的元素
电离能低于10.5 eV,因此具有很高的灵敏
度,少数电离能较高的元素,如C、O、Cl、Br
等也能检测,只是灵敏度较低。
ICP-MS由ICP焰炬,接口装置和质谱仪三部分组成;若使其具有好的
工作状态,必须
设置各部分的工作条件。
3. ICP-MS系统介绍
ICP主要包括ICP功率,载气、辅助气和冷却气流量。样品提升量等,ICP功率一般为
1
KW左右,冷却气流量为15 Lmin,辅助气流量和载气流量约为1
Lmin,调节载气流量
会影响测量灵敏度。样品提升量为1 mlmin。
3.1 样品导入系统
雾化器、雾化室。最常用的进样方式是利用同心型或直
角型气动雾化器产生气溶胶,在
载气载带下喷入焰炬,样品进样量大约为1
mLmin,是靠蠕动泵送入雾化器的。
标准样品引入系统由两个主要部分组成:样品提升部分和雾化部分。
样品提升部分可以使用蠕
动泵或自提升的雾化器。蠕动泵用于提升样品或提升经T
接头混合的样品内标混和液,可以便捷地实现内
标的在线加入。使用标准的1.02 mm内
径的样品管时,在0.1
rps转速下,蠕动泵提升样品的能力大约为0.4 mlmin。而内标管的
直径为0.19
mm,因此内标液的流速更慢,在0.1 rps转速下,蠕动泵提升内标的能力大约
为20 µlmi
n。也就是说,内标溶液相对于被稀释20倍,所以虽然我们要求引入系统的内
标元素浓度为50
ppb,但使用的内标溶液浓度为1ppm(1000ppb)。
注:即使用自提升的雾化器,仍需要
使用蠕动泵,因为雾化器里的废液是通过蠕动泵
排到废液桶中的。如果雾化器不排废液,将导致信号不稳
定,如果过多的液体流入炬管,
将导致熄火,对仪器造成危害。
样品引入系统的第二部分是
雾化器和雾化室。样品以泵入方式或者自提升方式进入
雾化器后,在载气作用下形成小雾滴,并进入雾化
室。大的、重的雾滴碰到雾化室壁后被
排至废液中,只有小雾滴才可进入等离子体内。载气的流量决定了
雾化效率,当载气流量
不够大时,可以增加混合气流量以保证雾化效率(例如:进行冷等离子体实验时)
。
雾化室的主要目的是去除大液滴,阻止其进入炬管,保证只有小颗粒的气
溶胶可以进入
等离子体。使用雾化室可以提高等离子体的稳定性和离子化的效率。大液滴碰撞到雾化室的
室壁,并由废液管排出。
炬管和雾化室可以通过计算机x、y、z三维调控,调节
精确度可达0.1mm;使用接头
夹固定炬管和连接管,方便器件的维护、更换;通过化学工作站软件可
以控制、移动整个
炬管箱至后方,方便用户直接维护锥和提取透镜。
Agilent
7500 ICP-MS使用的是ICP仪器上通用的Fassel型炬管。这种炬管由三个同
心石英管
组成,每层管路中流经的气体也有所不同。如果最中心的管路使用铂或蓝宝石材
质的内插管,则可检测含
HF的样品。
炬管的一端深入工作线圈中,工作线圈可以诱导产生用于样品离子化的等离子体。为防止等离子体的高温将炬管融化(等离子体的温度可以达到10,000K),系统向炬管的最外
层石英管中引入冷却气(又称等离子体气),其流量达15Lmin。冷却气等离子体气的主要作用是将等离子体推离炬管内壁,避免炬管融化,同时也为等离子体的形成提供了支持气。
在炬管第 二层石英管中引入的是辅助气,其流量大约为1Lmin,其作用是将等离子体推
离中心样品引入管的末 端,同时维持等离子体“火焰”。
载气从炬管的最中心管路进入炬管,同时将雾化室内形成的气溶胶带 入炬管。载气流
路(包括雾化器中引入的载气和混合气)的流量要足够大,保证可以在等离子体中心吹出 一
个“孔”,以将样品引入到等离子体中,实现样品的离子化;但载气流量又不能太大,以免
降 低气溶胶解离和离子化效率,并避免降低等离子体温度。一般说来,使用标准2.5mm
的炬管时,推荐 的载气流速为1.2Lmin。
3.2 接口系统
ICP产生的离子通过接口装 置进入质谱仪,接口装置的主要参数是采样深度,也即采样
锥孔与焰炬的距离,要调整两个锥孔的距离和 对中,同时要调整透镜电压,使离子有很好的
聚焦。
3.3
质谱仪
主要是设置扫描的范围。为了减少空气中成分的干扰,一般要避免采集N2、O2、Ar
等离子,进行定量分析时,质谱扫描要挑选没有其它元素及氧化物干扰的质量。同时还要有
合适的倍增
器电压。事实上,在每次分析之前,需要用多元素标准溶液对仪器整体性能进行
测试,如果仪器灵敏度能
达到预期水平,则仪器不再需要调整,如果灵敏度偏低,则需要调
节载气流量,锥孔位置和透镜电压等参
数。
扇形磁场质量分析器:由于洛伦兹力的作用,磁场能够对垂直磁场方向入射的带电粒子
进
行偏转,偏转的角度与粒子的质量、所带电量、初速度有关。对于相同动能的离子而言,
偏转角度就只与
离子的质荷比(mz)有关。由于需要用到高强度匀强磁场(一般为1.5T),
经典的扇形磁场质量分
析器的体积一般比较大。扇形磁场是历史上最早出现的质量分析器,
除了在质谱学发展史上具有重要意义
外,还具有很多优点,如重现性良好的峰形与同位素丰
度,分辨率与质量大小无关,能够比较快地进行扫
描(每秒10个质荷比单位)。在目前出
现的小型化质量分析器中,扇形磁场所占的比重不是很大,主要
是因为如果把磁场体积和重
量降低后将极大地影响磁场的强度,从而大大削弱其分析性能。但是,随着新
材料和新技术
的不断出现,这种局面可望在将来得到改观。
Agilent 7500 四级杆:Agilent 7500系列使用的是四级杆质
量过滤器。四级杆由四根
精密加工的双曲面杆平行成对儿排列而成。四级杆由纯钼材料制成,四个杆的中
央空隙部
分排列着离子束。RF电压和DC电压加在对角的两个杆上,而在另外两个杆上加的是相
同大小的负电压。电压的交替改变,产生了电磁场,与离子束发生相互作用。在特定的电
压下,只有特
定质量数的离子才能稳定的沿轨道穿过四级杆。因此,通过快速扫描、变换
电压的方式,不同质量数的离
子可以在不同时间内稳定,并穿过四级杆到达检测器。四级
杆质量过滤器的扫描速度超过每秒3000a
mu,相对于每秒时间内可以对整个质量范围扫描
10次。
因为四极杆的扫描速度毕竟是有限
的,所以如果离子进入四级杆的速度太快,就会导
致四极杆分离离子的能力降低。因此,仪器在四级杆之
前使用了一个Plate Bias透镜,并
在其上施加电压以降低离子进入质量过滤器的速度。如果在
该透镜上施加的是正电压(最
大为+5V),那么就更可以有效地降低离子速率,得到更好的峰形。
4. ICP-MS使用事项
4.1 ICP离子源中的物质
1)已电离的待测元素:As+, Pb +, Hg +, Cd +, Cu +, Zn +,
Fe +, Ca +, K +, ••••••
2)主体:Ar原子(>99.99%)
3)未电离的样品基体:Cl, NaCl(H2O) n, SOn, POn, CaO,
Ca(OH)n, FeO, Fe(OH) n,••••••
这些成分会沉积在采样锥、截取锥、第
一级提透镜、第二级提取透镜(以上部件在真空腔
外) 、聚焦透镜、偏转透镜、偏置透镜、预四极杆
、四极杆、检测器上(按先后顺序
依次减少),是实际样品分析时使仪器不稳定的主要因素,也是仪器污
染的主要因素;
4) 已电离的样品基体:ArO+, Ar +, ArH+,
ArC +, ArCl +, ArAr +,(Ar基分子离子)
CaO+, CaOH +,
SOn +, POn +, NOH +, ClO + ••••••(
样品基体产生),这些成分因为分子
量与待测元素如Fe, Ca, K, Cr, As, Se,
P, V, Zn, Cu等的原子量相同,是测定这些元素的主
要干扰;
特别需要注意的是
,1ppt浓度的样品元素在0.4mLmin(Babinton雾化器,0.1rps)
速度进样时
,相当于每秒进入仪器>10,000,000个原子;而在检测器得到的离子数在10-
1000之间
,即>99.99%的样品及其基体停留在仪器内部或被排废消除;因此,加大进样量
提高灵敏度的后果
是同时加大仪器受污染速度。
离子提取
接口处的样品离子
4.2 碰撞/反应池系统有三种工作方式:
1)Collisional Induced Dissociation
(干扰离子碰撞解离CID)
什么是碰撞诱导解离(CID)?
这是一个通过中性分子的碰
撞把能量传递给离子的过程。这种能量传递足以使分子键
断裂和所选择的离子重排。
为什么它那么重要?
在70年代初期McLafferty (JACS, 95,
3886, 1973)
论证了从离子观测得的键断裂和重
排,表明了CID是中性分子的分子结构的典型代表。
在质
谱图被获得之前,母离子在碰撞池或室中被打碎。可扫描子离子来获取母离子的
信息。通过碎片指纹分析
,这种类型的数据可用于排序(缩氨酸和糖),结构分析和分析
物鉴定。分裂最常用的方
法就是碰撞诱导解离(CID),有时也称碰撞激发分解(CAD)。
2)Reaction
(反应模式,)
3)(动能歧视KED,7500-ORS以此为主)
重要:脉冲模拟双模式调谐(PA调谐)!!
随着待测样品浓度的变化,化学工作站可以自动切换脉冲和模拟模式
为了得到良好的线性关系,需要进行
做PA Factor调谐。
进行PA Factor调谐所用的各个元素的计数值必须介于400,0
00和
4,000,000cps之间,才能得到正确的PA因子。
如果测定的元素浓度范围很
宽,脉冲和模拟两种模式都会用到,就必
须经常进行PA
Factor调谐,才能得到精确的分析结果。
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Presentation
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4.3 影响仪器检测能力的因素
1.环境污染与实验室工作条件
2.实验步骤的优化设计
3.试剂污染因素
4.购买适合测定要求的高纯试剂
5.分子离子的干扰因素
6.优化样品引入系统, 干扰校正方法, 屏蔽炬,
冷等离子体技术, 碰撞池或反应池
7.记忆效应
8.优化样品引入系统,
加长冲洗时间, 操作人员的素质
9.接口效应,基体效应
10.选择信号强度随着基体元
素的基体效应、接口效应而与待测元素信号强度同时增强或
降低的内标进行校正
11.随机背景
12.四极杆、离子透镜、真空系统等的优化组合设计
5. ICP--MS基本操作流程
1)、开机
1、开电脑(密码3000hanover),打印机;
2、打开仪器的总电源开关(在仪器后面的下角)和前面的电源开关;
3、双击桌面的“ICP-MS TOP”图标进入工作站,如下图所示:
4、从Instument菜单中选择“Instrument control
”或者单击“Instrument control
”图标
进入下图所示的仪器控制界面。从“Vacuum ” 菜单中选择“vacuum on”,抽
真空,第一次
开机需要抽过夜。仪器状态从“SHUTDOWN”到“STANDBY”状态转换;
5、从“Meters”菜单中选择“Meter Control Panel”,进入如下图所示的
画面,可以对真空、
水流量、环境温度、雾室温度、气体压力及射频功率进行实时监测。一般选择以下几
项
IFBK Pressure---接口及背压阀压力; Water Temperature
–循环水温;SC Temperature
雾室温度;Forward Power
入射功率;Reflected Power 反射功率;
6、首次开机,因为有使用碰撞池,还需从
,从“Maintenance”菜单中选择“Reaction Gas”,
勾选“Open
Bypass Valve”,设置所需反应气流量2-5 mLmin,进行反应气气路吹扫。如
果每
天使用反应池吹扫5-10min即可;如长期不用使用前需提前2 mLmin吹扫过夜。
7、仪器状态转换为“STANDBY”状态后,开氩气(0.7M
pa),循环水、排风。卡上蠕动泵
管,样品管必须放入DIW
(去离子水)中,若连有内标管,亦放入DIW 中。
8、从“Maintenance”菜单中选择“Sample Introduction…
”,进入如下图设置:检查确认
“Inputs ”显示与“Outputs
”输入一致,蠕动泵的样品及排液管工作正常。几分钟后,点击
“Close ”退出Sample
Introduction Maintenance界面。
9、从Instument
control界面选择“Plasma”菜单中的“Plasma
ON”进行点火,仪器由
“Standby ”状态向“Analysis”状态转换。若已经开机一段
时间,天天使用仪器,可直接
从步骤6开始做。
2)、关机
1、进完样品后,先用5% HNO
3
冲洗系统5min,再用去离子水冲洗系统5m
in,最后进样
针一定要在水里。
2、从Instument
control界面选择Plasma菜单中的Plasma
off进行灭火,仪器由状态
Analysis向Standby 状态转换。
3、待仪器转
换为“Standby”状态后,日常关机为,关闭通风设备和冷却水,将蠕动泵管松
开。
4、若仪器长时间不用,需要卸真空。灭火后,点击“Vacuum”菜单,选择“vacuum
off”进
行放真空程序,仪器由Standby向Shutdown 转换。
5、待转换为“Shutdown” 状态后,关Ar 气、循环水、排风。
6、退出工作站,关电源,最后松开蠕动泵。
3)、维护:
1、定期检查机械泵的油位及颜色,添加或更换油。
2、
定期打开机械泵的振气阀使油气过滤器中的泵油流回泵中。
3、 循环水应更换,一般次半年。
4、 灵敏度降低需清洗雾室、雾化器、炬管、锥及透镜,请参照维护视频。